電子部品

ドライエッチャー用消耗品

ドライエッチングの各種膜質に最適な上部電極素材(ALアルマイト、グラファイト、シリコン等)を高精度に加工し、提供しています。その他、周辺部品の開発、製造も行っています。
LCD用大型ALアルマイト製上部電極板、及び、下部電極板も提供しています。
特に、使用するガス等使用条件に応じて、アルマイトの膜質を改良し、最適な製品を製作します。

LCD用部品

大型ALアルマイト製上部電極板
  • 端部がR2形状のため電解集中が緩和され、局部的な被膜の劣化が
    なく(均一に膜が劣化し)、長時間の使用が可能
大型ALアルマイト製上部電極板

半導体用部品

プラズマエッチング用アルミ上部電極板
  • 端部がR2形状のため電解集中が緩和され、局部的な被膜の劣化が
    なく(均一に膜が劣化し)、長時間の使用が可能

プラズマエッチング用アルミ上部電極板

プラズマエッチング用アルミ上部電極板
シリコン電極
  • カーボン製電極に比べ、ラフタイムが長い(約1.5倍以上、当社比)
  • 発生パーティクルが少ない
  • エッチングレートがカーボン製電極と比較して良い(通常30~50%UP)ため、生産性向上が期待できる
  • 素材は、P型ドープ・N型ドープの選択が可能
シリコン電極
シリコンリング
  • 材料は、単結晶シリコン
  • 結晶方位は、[100]面で、大口径のインゴットとして経済的に得やすい
  • 品質・コスト・機械的強度でバランスがとれている
  • 比抵抗値は、10Ω/cm以下(P型、Bドープ)
シリコンリング
パイログラファイト電極
  • 高純度で、密度も理論値に近く、強い異方性を持っている
  • 機械的強度や熱的安定性が、通常のグラファイトより優れている
  • 不浸透性である
  • 脱ガス・ダストが出にくい
パイログラファイト電極

イオン注入機用消耗品

カソード開発で培ってきた高融点金属の加工技術を応用して、各種イオン注入装置のイオンソースヘッド部品、各種消耗部品を提供しています。最新の開発製品は特殊加工を施し、従来のソースヘッドと比較して20%以上ビームのとれるソースヘッドを提供しています。

イオンソースヘッド
  • 各種金属、カーボン、セラミック、樹脂等、あらゆる材料の加工が可能
イオンソースヘッド